Three factors have contributed to t

Three factors have contributed to the rapid development growth in the number of circuit elements per chip.
One factor is improvement in techniques for growing large single crystals of pure silicon. By increasing the diameter of the wafers — the discs of silicon on which chips are manufac¬tured — more chips can be made at one time, reducing the unit cost.
Moreover, the quality of the material has also been improved, reducing the number of defects per wafer. This has the effect of increasing the maximum practical size of a chip because it reduces the probability that a defect will be found within a given area. The chip size for large-scale integrated circuits has grown from less than 10.000 square mils (thousandths of an inch) to 70.000.
A second factor is improvement in optical lithography, the process whereby all the patterns that make up a circuit are ulti¬mately transferred to the surface of the silicon. By developing op¬tical systems capable of resolving finer structures, the size of a
typical transistor, as measured by the gate length, has been re¬duced from a few thousandths of an inch in 1965 to two microns today.
Finally refinements in circuit structure that make more effi¬cient use of silicon area have led to a hundredfold increase in the density of transistors on the chip.

Результаты (русский) 1:

Три фактора способствовали росту стремительного развития в число элементов цепей на чип. Одним из факторов является улучшение методов выращивания больших монокристаллов чистого кремния. Путем увеличения диаметра пластин — диски кремния, на которой чипы manufac¬tured — фишки могут быть сделаны в одно время, сокращение удельных затрат. Кроме того качество материала также улучшена, уменьшение количества дефектов на пластины. Это имеет эффект увеличения максимального практического размера чипа, потому что это уменьшает вероятность того, что в данной области будет обнаружен дефект. Размер чипа для больших интегральных схем увеличилось с менее чем 10.000 квадратных mils (тысячных дюйма) до 70.000. Вторым фактором является улучшение в оптической литографии, процесс, при котором все шаблоны, которые составляют цепь ulti¬mately, переданы на поверхности кремния. Путем разработки op¬tical систем, способных решать более тонкие структуры, размер Типичный транзистор, как измеряется длина ворот, был re¬duced от нескольких тысячных дюйма в 1965 году до двух микрон сегодня. Наконец уточнениями в цепи структуры, которые делают более effi¬cient использования кремния области привели к hundredfold увеличение плотности транзисторов на кристалле.

Результаты (русский) 2:

Три фактора способствовали быстрому росту развития числа элементов схемы на одном кристалле.
Одним из факторов является улучшение методов выращивания крупных монокристаллов чистого кремния. При увеличении диаметра пластин - диски кремния , на которых manufac¬tured щепа -. Больше , чипы могут быть сделаны в одно время, уменьшая себестоимость единицы продукции
Кроме того, качество материала , также была улучшена, сокращение числа дефектов на пластине. Это имеет эффект увеличения максимального практического размера чипа , так как это уменьшает вероятность того, что дефект будет найден в пределах данной области. Размер чипа для крупномасштабных интегральных микросхем выросло с менее чем 10.000 квадратных мил (тысячных дюйма) до 70.000.
Вторым фактором является повышение оптической литографии, процесс , в котором все модели , которые образуют цепь являются ulti¬mately переносимое на поверхность кремния. Развивая op¬tical систем , способных решать более тонкие структуры, размер
типичного транзистора, как измеряется длиной затвора, было re¬duced от нескольких тысячных дюйма в 1965 году до двух микрон сегодня. В
конце концов уточнений в структуре схемы что делает более effi¬cient использование площади кремния, привели к увеличению стократному плотности транзисторов на чипе.