As the limit of optical resolution

As the limit of optical resolution is now being reached, new lithographic and fabrication techniques will bе required. Circuit patterns will have to bе formed with radiation having wavelength shorter than those of light, and fabrication techniques capable of greater definition will bе needed.

Результаты (русский) 1:

Как теперь быть достигнута предельная оптическое разрешение, новые методы литографии и изготовления будет быть требуется. Схемы узоров будет к быть сформировал с излучением с длиной волны короче, чем свет, и методов изготовления, способных более широкого определения будет необходимо быть.

Результаты (русский) 2:

В настоящее время достигнут предел оптического разрешения, новые литографические и изготовление техники будет Бе требуется. изображений схем должны будут сформированы с Бе излучение с длиной волны короче, чем у света, и методы изготовления, способные это более высокое разрешение будет Бе необходимости.

Результаты (русский) 3:

как предел оптических резолюции в настоящее время достигнуто, литографии и производство новых технологий будет в, е.схема модели придется б е с радиацией после волны меньше, чем те, света, и изготовление методов, способных более определение будет б е необходимо.